如果没有🖽周硕的干扰，从0.35微米工艺向0.25微米工艺过渡的光刻机，真实历史上实际使用的是步进重复投影曝光技术。
在0.35微米工艺及之前，光刻机光学掩膜版的制作要求是非😻常高的。基本上和生产的芯片，是一对一全比例设计🎂🎒。
掩膜版投射的镜头需要与硅片进行完全的接触，接触中甚至要抽成真空状态。然后光🃯🛗🜣源系统的激光打到掩膜版上，投影部分的光刻胶就会被蒸发掉。把这样的晶圆放到蚀刻机里面，化学药品就会将没有覆盖光刻胶的部分腐蚀掉，然后再把晶圆转移到离子注入机上进行离子注入……
把镜头和晶圆直接接触，或者两者之间只有小缝隙的接近，这种光刻机被称之为接触、接近式曝光技术。因为使用这种技术的光刻机镜头要和晶圆进行完全的接触，对掩膜版、镜头、晶圆🔽和光刻胶都有非常高的要求。
这种设计自有其好的一面，对镜头精度要求低，系统复杂度低，以及成像质量高之类的优点。但也有其致命的缺陷，0.35微米工艺基本上就是其经济性的极限了。
0.25微米工艺光刻机想要延续接触式曝光，整个系统需要的机🌺🄍械精密程度，掩膜版的成本、掩膜版和硅片的接触紧密度，系统的集成难度都开始了几何级数的增加。
于是在原本的历史上，尼康也好、阿斯麦也好都选择了另一条路，那就是非接触🉇🅌🅋式曝光🝝🌌。也就是投影式曝光技术。
这种技术说白了，就是好像平常用放大镜聚集太阳🛬🟡🞮光一样。用棱镜系统将光源从远处投射到硅片上。这样经过几次聚焦、折射、再聚焦♬，最终投影到硅片上的图形比掩膜版甚至可以小上4倍。
对于沉浸式光刻技术而言。投影式曝光技术最大的好处就是——避免了使🛖🜕🛖🜕用防水光刻胶的高成本。
其实说起来🃕🗧，周硕现在真的很想哈哈大笑一下，以🛬🟡🞮发泄自己内心的畅快！
日本人费尽心思弄到了防水光刻胶的技⛲🞒术，原本他们这个技术至少是可以吃一代光刻机没问题的。历史上，早期沉浸式光刻机系统也是使用防水光刻胶的接近式光刻机，直到投影式光刻机成为主流防水光刻胶才退出了历史舞台。
他现在拿出来的这份文件，自然就是投影式光刻机的技术专利，可以📙🛎🛒说这项技术一出防水光刻胶就是一个废物了！
鹤田刚开始还不以为然，在他的心里早就已经认为泛翰集团是🁜🆨💄砧板上的鱼肉。哪里还有什么翻盘的机会？
这个年代里，日本人不仅是骄傲的，而⛲🞒且🅇也非常有骄傲的资本。整个九十年代，世界🃯🛗🜣十大晶圆厂，日本人占了半数还多！
在鹤田和所有日本人看来，中国人能拿出沉浸式光刻技术纯粹就是瞎猫碰死耗子，反正搞举国体制不正是共产🟎⚖国际的强项嘛！
除了沉浸式光刻技术这种独辟蹊径的取巧之🙇🈐♊道，日本人绝不相信泛翰集团还🚬🖟能在其他方向产生突破，他们手里的底牌也就是仅此而已。
然而事实证明。中国人比他们想象的要强大的多。这对鹤田来说，不啻是一个📂巨🉇🅌🅋大的嘲讽。